南工大：DNA分子印迹精准“捕获”抗性基因(2)

“既要抓降解，也要抓捕获。”2018年12月，14位环境光催化领域的顶级专家在《环境科学与技术》上，开展了一场关于光催化技术实际应用问题的大讨论，光催化的选择性问题引起专家的关注。

而在这之前，2018年11月份，袁青彬和他的团队成员已经在实验室开始了DNA分子印迹选择并降解抗性基因的实验。

“城市污水处理技术的发展离不开环境中抗性基因控制技术的深入。”从2012年开始，还是博士一年级的袁青彬就一直致力于抗性基因行为和控制技术的研究。他说：“因为我们做的是应用型研究，每一点对于应用效率的提高都能为解决水污染提供新的参考。”

做过紫外光去除抗性基因的项目，也做过光催化材料优化的项目，能否在污染物的降解程序上有所突破？具有“选择性识别”特征的分子印迹一下子吸引了袁青彬和团队成员的注意。

“目前我们正在对材料进行改进，以便进一步提高DNA分子印迹的选择性。”袁青彬和团队成员正在考虑实验的落地和应用问题。与此同时，他们也正在研究如何让DNA分子印迹技术更好地应用到生活污水之外的工业污水和养殖污水中，并实现长期降解能力的增强。

相关论文信息：https://doi.org/10.1021/acs.est.9b06926

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